EBIRCh

Die Elektronenstrahlinduzierte Widerstandsänderung (EBIRCh) ist eine Technik der elektronischen Analyse, die bei der Fehleranalyse zur Lokalisierung von Schwachstellen in Halbleiterbauelementen eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren wird mit Hilfe einer Spannungsquelle (Bias) ein Strom durch die zu prüfende Struktur gejagt, und es werden Stellen ermittelt, an denen der Elektronenstrahl den resultierenden Strom (gemessenen Widerstand) verändern kann.

EBIRCh ist kein Ladungssammelverfahren, da der absorbierte Strom für den resultierenden Kontrast keine Rolle spielt. Es kann aber dennoch als Probenstromverfahren betrachtet werden, da es den Strom der Probe misst. Es ist daher eine Ergänzung zu den Verfahren EBIC und EBAC/RCI.

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